بررسی مکانیزم تشکیل mosi2 در حضور مس طی فرایند سنتز احتراقی

دی سیلیسید مولیبدن دارای خواص ویژه ای نظیر مقاومت به اکسیداسیون در دمای بالا هدایت الکتریکی در حد المان های حرارتی و هدایت حرارتی بالا چگالی نسبتا پایین و نقطه ذوب بالا می باشد. البته مقاومت به اکسیداسیون این ماده در محدوده 600-400 درجه سانتی گراد کم بوده ممکن است کل ماده به یکباره اکسید شود. دمای تبدیل تردی به نرم این ماده در محدوده 900 تا 1000 درجه سانتی گراد قرار دارد و بالای 1000 درجه سانتی گراد ترکیب mosi2 رفتار نرم از خود نشان می دهد. دی سیلیسید مولیبدن ماده ای مناسب جهت استفاده در درماهای بالا می باشد. المان حرارتی کوره ها، لانس دمش هوا به داخل مذاب، مشعل های گازی و تولید شیشه از جمله موارد مصرف mosi2 می باشند. با توجه به خواص دمای بالای ماده ممکن است بتوان شبکه پیش ساخته ای از دی سیلیسید مولیبدن تولید کرد که دارای تخلخل های باز است. سپس فلزی مانند مس را به داخل این ساختار نفوذ داد. با توجه به تخلخل های باز موجود در ساختار در صورت نفوذ مس رسانایی در سراسر کامپوزیت حاصل بیتشر خواهد شد. بنابراین کامپوزیتی تولید شده که به دلیل حضور مس رسانایی بیشتری از دی سیلیسید مولیبدن دارد و با توجه به حضور شبکه پیوسته mosi2 دارای استحکام مناسب در دمای بالا می باشد. مشکلی که در این میان وجود دارد ترشوندگی ضعیف دی سیلیسید مولیبدن توسط مس است که نفوذ دادن مذاب مس را به داخل شبکه پیش ساخته با مشکل مواجه می کند. از جمله روشهای تولید دی سیلیسید مولیبدن سنتز احتراقی می باشد.تحقیقات گسترده ای در زمینه آلیاژسازی مکانیکی و سنتز احتراقی سیستم mo-si بدون حضور و یا با حضور عنصر سوم صورت گرفته است.